| 專利名稱: | 一種制備鏤空的聚酰亞胺蒸發(fā)掩模漏版的方法 |
| 專利類別: | 發(fā)明專利 |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200810104760.1 |
| 申請(qǐng)日期: | 2008-04-23 |
| 專利號(hào): | 200810104760.1 |
| 第一發(fā)明人: | 甄麗娟，商立偉，劉明，劉興華，涂德鈺，劉舸 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號(hào): | |
| 專利摘要: | |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出