專利名稱: | 一種制作凹面型X射線聚焦小孔的方法 |
專利類別: | 發(fā)明專利 |
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 201110155042.9 |
申請(qǐng)日期: | 2011-06-10 |
專利號(hào): | |
第一發(fā)明人: | 謝常青,方磊,朱效立,李冬梅,劉明 |
其它發(fā)明人: | |
國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | |
專利證書號(hào): | |
專利摘要: | |
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科研產(chǎn)出