專利名稱: | 一種三層復(fù)合離子注入阻擋層及其制備、去除方法 |
專利類別: | 發(fā)明專利 |
申請?zhí)?/strong>: | 201110379705.5 |
申請日期: | 2011-11-25 |
專利號(hào): | |
第一發(fā)明人: | 李博,申華軍,白云,湯益丹,劉煥明,周靜濤,楊成樾,劉新宇 |
其它發(fā)明人: | |
國外申請日期: | |
國外申請方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | |
專利證書號(hào): | |
專利摘要: | |
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科研產(chǎn)出