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專利名稱: 一種三層復(fù)合離子注入阻擋層及其制備、去除方法
專利類別: 發(fā)明專利
申請?zhí)?/strong>: 201110379705.5
申請日期: 2011-11-25
專利號(hào):
第一發(fā)明人: 李博,申華軍,白云,湯益丹,劉煥明,周靜濤,楊成樾,劉新宇
其它發(fā)明人:
國外申請日期:
國外申請方式:
專利授權(quán)日期:
繳費(fèi)情況:
實(shí)施情況:
專利證書號(hào):
專利摘要:
其它備注: