| 專(zhuān)利名稱: | 復(fù)合光子篩投影式光刻系統(tǒng) |
| 專(zhuān)利類(lèi)別: | 發(fā)明專(zhuān)利 |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | PCT/CN2011/078453 |
| 申請(qǐng)日期: | 2011-08-16 |
| 專(zhuān)利號(hào): | |
| 第一發(fā)明人: | 謝常青,高南,華一磊,朱效立,李海亮,史麗娜,李冬梅,劉明 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 專(zhuān)利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專(zhuān)利證書(shū)號(hào): | |
| 專(zhuān)利摘要: | |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出