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專利名稱: 一種單原子層石墨烯薄膜的制備方法
專利類別: 發(fā)明
申請?zhí)?/strong>: 201010546602.9
申請日期: 2010-11-16
專利號: 201010546602.9
第一發(fā)明人: 夏洋,饒志鵬,劉鍵
其它發(fā)明人:
國外申請日期:
國外申請方式:
專利授權(quán)日期:
繳費(fèi)情況:
實(shí)施情況:
專利證書號:
專利摘要:
其它備注: