| 專利名稱: | 一種采用X射線曝光制作聲表面波器件的方法 |
| 專利類別: | 發(fā)明 |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 200810222328.2 |
| 申請(qǐng)日期: | 2008-09-17 |
| 專利號(hào): | 200810222328.2 |
| 第一發(fā)明人: | 趙以貴,李晶晶,朱效立,牛潔斌,劉明 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國外申請(qǐng)日期: | |
| 國外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 專利證書號(hào): | |
| 專利摘要: | |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出