專利名稱: | 改善氮化鎵基場(chǎng)效應(yīng)管后道工藝的方法 |
專利類別: | 發(fā)明 |
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 201010235058.6 |
申請(qǐng)日期: | 2010-07-21 |
專利號(hào): | 201010235058.6 |
第一發(fā)明人: | 汪寧 |
其它發(fā)明人: | |
國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | |
專利證書號(hào): | |
專利摘要: | |
其它備注: | 四室 |
科研產(chǎn)出