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專利名稱: 一種基于濕法腐蝕制備位相型衍射光學(xué)元件的方法
專利類別: 發(fā)明
申請?zhí)?/strong>: 201110061444.2
申請日期: 2011-03-15
專利號: 201110061444.2
第一發(fā)明人: 李海亮,謝常青,牛潔斌,朱效立,史麗娜
其它發(fā)明人:
國外申請日期:
國外申請方式:
專利授權(quán)日期:
繳費(fèi)情況:
實(shí)施情況:
專利證書號:
專利摘要:
其它備注: 三室一組