專利名稱: | 一種基于濕法腐蝕制備位相型衍射光學(xué)元件的方法 |
專利類別: | 發(fā)明 |
申請?zhí)?/strong>: | 201110061444.2 |
申請日期: | 2011-03-15 |
專利號: | 201110061444.2 |
第一發(fā)明人: | 李海亮,謝常青,牛潔斌,朱效立,史麗娜 |
其它發(fā)明人: | |
國外申請日期: | |
國外申請方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | |
專利證書號: | |
專利摘要: | |
其它備注: | 三室一組 |
科研產(chǎn)出