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專利名稱: 一種用于CMOS器件的雙金屬柵雙高介質(zhì)的集成方法
專利類別: 發(fā)明
申請?zhí)?/strong>: 201010199981.9
申請日期: 2010-06-08
專利號: ZL201010199981.9
第一發(fā)明人: 徐秋霞,許高博
其它發(fā)明人:
國外申請日期:
國外申請方式:
專利授權(quán)日期:
繳費情況:
實施情況:
專利證書號:
專利摘要:
其它備注: 十室