專利名稱: | 高溫水蒸氣和水混合射流清洗系統(tǒng)及方法 |
專利類別: | 發(fā)明專利 |
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 201010531171.9 |
申請(qǐng)日期: | 2010-11-03 |
專利號(hào): | ZL201010531171.9 |
第一發(fā)明人: | 王磊 |
其它發(fā)明人: | |
國外申請(qǐng)日期: | |
國外申請(qǐng)方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | 授權(quán) |
專利證書號(hào): | ZL201010531171.9 |
專利摘要: | |
其它備注: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
科研產(chǎn)出