| 專利名稱: | 金屬柵層/高K柵介質(zhì)層的疊層結(jié)構(gòu)的刻蝕方法 |
| 專利類別: | 發(fā)明專利 |
| 申請?zhí)?/strong>: | 201010269029.1 |
| 申請日期: | 2010-08-31 |
| 專利號: | ZL201010269029.1 |
| 第一發(fā)明人: | 李永亮 |
| 其它發(fā)明人: | 李永亮;徐秋霞 |
| 國外申請日期: | |
| 國外申請方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費情況: | |
| 實施情況: | 授權(quán) |
| 專利證書號: | ZL201010269029.1 |
| 專利摘要: | |
| 其它備注: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
科研產(chǎn)出