專利名稱: | 采用后柵工藝制備CMOS器件中接觸孔的方法 |
專利類別: | 發(fā)明專利 |
申請?zhí)?/strong>: | 201010542475.5 |
申請日期: | 2010-11-11 |
專利號: | ZL201010542475.5 |
第一發(fā)明人: | 閆江 |
其它發(fā)明人: | 閆江 |
國外申請日期: | |
國外申請方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費情況: | |
實施情況: | 授權(quán) |
專利證書號: | ZL201010542475.5 |
專利摘要: | |
其它備注: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
科研產(chǎn)出