| 專利名稱: | 自對(duì)準(zhǔn)式多次成像光刻 |
| 專利類別: | 發(fā)明專利 |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 201010611749.1 |
| 申請(qǐng)日期: | 2010-12-17 |
| 專利號(hào): | ZL201010611749.1 |
| 第一發(fā)明人: | 賀曉彬 |
| 其它發(fā)明人: | 賀曉彬;楊濤 |
| 國外申請(qǐng)日期: | |
| 國外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | 授權(quán) |
| 專利證書號(hào): | ZL201010611749.1 |
| 專利摘要: | |
| 其它備注: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
科研產(chǎn)出