| 專利名稱: | 一種對(duì)納米尺度元件進(jìn)行套刻的方法 |
| 專利類別: | 發(fā)明專利 |
| 申請?zhí)?/strong>: | 201110087449.2 |
| 申請日期: | 2011-04-08 |
| 專利號(hào): | 201110087449.2 |
| 第一發(fā)明人: | 方磊,王艷花 |
| 其它發(fā)明人: | 謝常青;方磊;朱效立;辛將;李冬梅;劉明 |
| 國外申請日期: | |
| 國外申請方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | 授權(quán) |
| 專利證書號(hào): | 201110087449.2 |
| 專利摘要: | |
| 其它備注: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
科研產(chǎn)出