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專利名稱: 層間電介質(zhì)層的平面化方法
專利類別: 國際專利
申請(qǐng)?zhí)?/strong>: PCT/CN2011/071056
申請(qǐng)日期: 2011-02-17
專利號(hào): US8703617
第一發(fā)明人: 范正萍
其它發(fā)明人: 殷華湘;徐秋霞;孟令款;楊濤;陳大鵬
國外申請(qǐng)日期:
國外申請(qǐng)方式:
專利授權(quán)日期:
繳費(fèi)情況:
實(shí)施情況: 授權(quán)
專利證書號(hào): US8703617
專利摘要:
其它備注: 中國科學(xué)院微電子研究所