| 專利名稱: | 復(fù)合光子篩投影式光刻系統(tǒng) |
| 專利類別: | 發(fā)明專利 |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | PCT/CN2011/078453 |
| 申請(qǐng)日期: | 2011-08-16 |
| 專利號(hào): | 13/375,102 |
| 第一發(fā)明人: | 高南 |
| 其它發(fā)明人: | 謝常青;高南;華一磊;朱效立;李海亮;史麗娜;李冬梅;劉明 |
| 國外申請(qǐng)日期: | |
| 國外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | 授權(quán) |
| 專利證書號(hào): | 13/375,102 |
| 專利摘要: | |
| 其它備注: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
科研產(chǎn)出