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專利名稱: 一種分子尺度界面SiO2的形成和控制方法
專利類別: 國際專利
申請?zhí)?/strong>: PCT/CN2012/071703
申請日期: 2012-02-28
專利號: US8,822,292
第一發(fā)明人: 徐秋霞
其它發(fā)明人: 徐秋霞;許高博
國外申請日期:
國外申請方式:
專利授權(quán)日期:
繳費情況:
實施情況: 授權(quán)
專利證書號: US8,822,292
專利摘要:
其它備注: 中國科學(xué)院微電子研究所