| 專利名稱: | 提高化學(xué)機(jī)械平坦化工藝均勻性的方法 |
| 專利類別: | 國際專利 |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | PCT/CN2012/000802 |
| 申請(qǐng)日期: | 2012-06-12 |
| 專利號(hào): | US8647987 |
| 第一發(fā)明人: | 范正平 |
| 其它發(fā)明人: | 楊濤;趙超;李俊峰;侯瑞兵;盧一泓;崔虎山 |
| 國外申請(qǐng)日期: | |
| 國外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | 授權(quán) |
| 專利證書號(hào): | US8647987 |
| 專利摘要: | |
| 其它備注: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
科研產(chǎn)出