專利名稱: | 基于壓力測量模塊的原子層沉積設(shè)備及其使用方法 |
專利類別: | 發(fā)明專利 |
申請?zhí)?/strong>: | 201110309998.X |
申請日期: | 2011-10-13 |
專利號: | ZL 201110309998.X |
第一發(fā)明人: | 王燕;李勇滔;夏洋;趙章琰;石莎莉 |
其它發(fā)明人: | |
國外申請日期: | |
國外申請方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | 授權(quán) |
專利證書號: | |
專利摘要: | |
其它備注: | |
科研產(chǎn)出