| 專利名稱: | 用于超淺結(jié)注入的離子源裝置 |
| 專利類別: | 發(fā)明專利 |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 201110004958.4 |
| 申請(qǐng)日期: | 2011-01-11 |
| 專利號(hào): | ZL201110004958.4 |
| 第一發(fā)明人: | 劉金彪;張琦輝;宋希明;張浩;李琳;劉強(qiáng);丁明正;李俊峰;趙超 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 專利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | 授權(quán) |
| 專利證書(shū)號(hào): | |
| 專利摘要: | |
| 其它備注: | |
科研產(chǎn)出