專利名稱: | 提高隔離氧化物CMP均勻性的方法及其專用設(shè)備 |
專利類別: | 發(fā)明專利 |
申請?zhí)?/strong>: | 201110257878.X |
申請日期: | 2011-09-01 |
專利號(hào): | 201110257878.X |
第一發(fā)明人: | 王桂磊;楊濤 |
其它發(fā)明人: | |
國外申請日期: | |
國外申請方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | 授權(quán) |
專利證書號(hào): | |
專利摘要: | |
其它備注: | |
科研產(chǎn)出