專利名稱: | 極紫外光刻掩模缺陷檢測系統(tǒng) |
專利類別: | 發(fā)明專利 |
申請?zhí)?/strong>: | 201210104156.5 |
申請日期: | 2012-04-10 |
專利號: | 201210104156.5 |
第一發(fā)明人: | 李海亮;謝常青;劉明;李冬梅;牛潔斌;史麗娜;朱效立 |
其它發(fā)明人: | |
國外申請日期: | |
國外申請方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費(fèi)情況: | |
實(shí)施情況: | 授權(quán) |
專利證書號: | |
專利摘要: | |
其它備注: | |
科研產(chǎn)出