| 專(zhuān)利名稱: | 一種在p型Ge襯底制備n+/p型超淺結(jié)的方法 |
| 專(zhuān)利類(lèi)別: | 發(fā)明專(zhuān)利 |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong>: | 201210495667.4 |
| 申請(qǐng)日期: | 2012-11-18 |
| 專(zhuān)利號(hào): | 201210495667.4 |
| 第一發(fā)明人: | 劉洪剛;韓樂(lè);薛百清;孫兵;王盛凱 |
| 其它發(fā)明人: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 專(zhuān)利授權(quán)日期: | |
| 繳費(fèi)情況: | |
| 實(shí)施情況: | 授權(quán) |
| 專(zhuān)利證書(shū)號(hào): | 201210495667.4 |
| 專(zhuān)利摘要: | |
| 其它備注: | 高頻高壓中心 |
科研產(chǎn)出