專利名稱: | 化學機械拋光模擬方法及其去除率計算方法 |
專利類別: | 發(fā)明專利 |
申請?zhí)?/strong>: | 201310576967.X |
申請日期: | 2013-11-18 |
專利號: | ZL201310576967.X |
第一發(fā)明人: | 馬天宇;陳嵐;孫艷 |
其它發(fā)明人: | |
國外申請日期: | |
國外申請方式: | |
專利授權(quán)日期: | |
繳費情況: | |
實施情況: | 授權(quán) |
專利證書號: | ZL201310576967.X |
專利摘要: | |
其它備注: | EDA中心 |
科研產(chǎn)出