| 專著名稱: | CMOS技術(shù)高k柵介質(zhì)High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology |
| 研究中心: | |
| 首席研究員: | |
| 主編單位: | CMOS技術(shù)高k柵介質(zhì)High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology |
| 出版時間: | 2012-08-01 |
| 出版社: | |
| 主編: | |
| 編寫人員: | 王文武 |
| 總字?jǐn)?shù): | |
| 編者字?jǐn)?shù): | |
| 著作性質(zhì): | 微電子學(xué) |
| 編輯出版單位: | CMOS技術(shù)高k柵介質(zhì)High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology |
| 出版資助單位: | |
| 再版次數(shù): | |
| 印刷數(shù)量: | |
| 參編內(nèi)容: | CMOS技術(shù)高k柵介質(zhì) |
| 著作簡介: | |
| 其它備注: | 國外出版-外文 |
科研產(chǎn)出