專利名稱 | 發(fā)明人 | 申請(qǐng)?zhí)?/th> | 申請(qǐng)日期 |
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向溝道中引入應(yīng)變的方法和使用該方法制作的器件 | 殷華湘,徐秋霞,陳大鵬; | PCT/CN2011/000694 | 2011-04-20 |
半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)的制造方法及其結(jié)構(gòu) | 鐘匯才, 梁擎擎; | PCT/CN2011/000306 | 2011-02-25 |
半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)及其制造方法 | 鐘匯才, 梁擎擎; | PCT/CN2011/000308 | 2011-02-25 |
一種半導(dǎo)體器件及其形成方法 | 趙超,王文武,朱慧瓏; | PCT/CN2011/000279 | 2011-02-23 |
一種半導(dǎo)體器件及其形成方法 | 朱慧瓏,梁擎擎; | PCT/CN2011/000337 | 2011-03-02 |
一種半導(dǎo)體器件及其形成方法 | 朱慧瓏,梁擎擎; | PCT/CN2011/000336 | 2011-03-02 |
一種半導(dǎo)體器件及其形成方法 | 朱慧瓏,梁擎擎,駱志炯,尹海洲; | PCT/CN2011/000338 | 2011-03-02 |
晶體管及其制造方法 | 尹海洲,朱慧瓏,駱志炯; | PCT/CN2011/000263 | 2011-02-21 |
晶體管及其制造方法 | 尹海洲,駱志炯,朱慧瓏; | PCT/CN2011/000280 | 2011-02-23 |
晶體管及其制造方法 | 尹海洲,朱慧瓏,駱志炯; | PCT/CN2011/000262 | 2011-02-21 |
可調(diào)節(jié)溝道應(yīng)力的器件與方法 | 殷華湘,徐秋霞,陳大鵬; | PCT/CN2011/000278 | 2011-02-23 |
采用后柵工藝制備CMOS器件中接觸孔的方法 | 閆江; | PCT/CN2011/000261 | 2011-02-21 |
用于集成電路的襯底及其形成方法 | 鐘匯才, 梁擎擎, 尹海洲, 駱志炯; | PCT/CN2011/000309 | 2011-02-25 |
晶體管及其制造方法 | 尹海洲,駱志炯,朱慧瓏; | PCT/CN2011/000292 | 2011-02-24 |
一種互補(bǔ)型金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法 | 徐秋霞,李永亮,許高博; | PCT/CN2011/082585 | 2011-11-22 |
科研產(chǎn)出