專利名稱 | 發(fā)明人 | 申請?zhí)?/th> | 申請日期 |
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一種SOI NMOS總劑量輻照建模方法 | 卜建輝; | 201010251985.7 | 2010-08-12 |
一種SOI體電阻建模方法 | 卜建輝; | 201010217274.8 | 2010-06-23 |
一種垂直型NROM存儲結構及其制備方法 | 霍宗亮; 霍宗亮;劉明;劉璟;張滿紅 | 201010573812.7 | 2010-11-30 |
一種對電阻存儲器進行編程的電路 | 龍世兵; 劉明;張森;龍世兵;劉琦 | 201010573813.1 | 2010-11-30 |
一種大高寬比衍射光學元件的制作方法 | 李海亮; 謝常青;李海亮;史麗娜;朱效立;劉明 | 201010544430.1 | 2010-11-12 |
非揮發(fā)性半導體存儲單元、器件及制備方法 | 霍宗亮; 霍宗亮;劉明;張滿紅 | 201010527589.2 | 2010-10-27 |
一種無電容型動態(tài)隨機訪問存儲器結構及其制備方法 | 霍宗亮; 霍宗亮;劉明 | 201010251514.6 | 2010-08-11 |
一種制作復合半導體薄膜材料的方法 | 梁圣法; 李冬梅;侯成誠;劉明;周文;汪幸;閆學鋒;謝常青;霍宗亮 | 201010247619.4 | 2010-08-06 |
一種準循環(huán)低密度奇偶校驗碼的通用快速譯碼協(xié)處理器 | 管武; | 201010573814.6 | 2010-11-30 |
毫米波頻率源裝置 | 王顯泰; | 201010573809.5 | 2010-04-28 |
高頻頻率源裝置 | 王顯泰; | 201010544425.0 | 2010-04-28 |
控制背孔剖面形狀的方法 | 魏珂; | 201010520274.5 | 2010-10-20 |
用于雙腔室結構等離子體浸沒離子注入的隔板裝置 | 李超波; | 201010219788.7 | 2010-07-07 |
一種自動構建器件模型參數(shù)優(yōu)化提取過程的方法 | 吳玉平,陳嵐; 葉甜春;陳嵐;吳玉平 | 201010249178.1 | 2010-08-09 |
時間粗同步和頻率精同步的時域聯(lián)合估計方法 | 吳斌; 吳斌 | 200910092878.1 | 2009-09-09 |
科研產出