| 專利名稱 | 發(fā)明人 | 申請?zhí)?/th> | 申請日期 |
|---|---|---|---|
| 一種InP HBT器件側(cè)墻的制備方法 | 郭建楠,金智,蘇永波,王顯泰; | 201110165262.X | 2011-06-20 |
| 一種基于差分技術(shù)的消除成像器件閾值偏差影響的方法 | 冀永輝,余兆安,王琴,龍世兵,劉明,謝常青; | 201110024872.8 | 2011-01-24 |
| 一種光學(xué)傳感器及其內(nèi)部的成像器件 | 冀永輝,余兆安,王琴,龍世兵,謝常青,劉明; | 201110022327.5 | 2011-01-20 |
| 一種半導(dǎo)體存儲器件的復(fù)位方法 | 冀永輝,謝常青,劉明; | 201110028102.0 | 2011-01-26 |
| 埋置有源元件的基板及埋置方法 | 張霞,萬里兮; | 201110135359.6 | 2011-05-24 |
| 一種測量涂層耐腐蝕性能的方法 | 王文東,夏洋,李超波,劉邦武,李勇滔,羅小晨; | 201110087749.0 | 2011-04-08 |
| 提高非易失性電阻轉(zhuǎn)變存儲器均一性的方法 | 連文泰,劉明,龍世兵,呂杭炳,劉琦; | 201110023200.5 | 2011-01-20 |
| 一種非揮發(fā)性存儲器件的編程方法 | 霍宗亮,姜丹丹,劉明,張滿紅,王琴,劉璟,李冬梅; | 201110022638.1 | 2011-01-20 |
| 非揮發(fā)性電阻轉(zhuǎn)變存儲器 | 連文泰,劉明,龍世兵,呂杭炳,劉琦; | 201110022467.2 | 2011-01-20 |
| 化學(xué)機械拋光研磨液動壓分布和研磨去除率的確定方法 | 徐勤志,陳嵐; | 201110388504.1 | 2011-11-29 |
| 對精簡標(biāo)準(zhǔn)單元庫進行優(yōu)化的方法 | 羅海燕,陳嵐,尹明會,趙劼; | 201110082736.4 | 2011-04-01 |
| 一種基于Cell的層次化光學(xué)鄰近效應(yīng)校正方法 | 羅海燕,陳嵐,尹明會,趙劼; | 201110082471.8 | 2011-04-01 |
| 參數(shù)化單元的實現(xiàn)方法及由該參數(shù)化單元構(gòu)成的系統(tǒng) | 羅海燕,陳嵐,尹明會,趙劼; | 201110137674.2 | 2011-05-26 |
| 納米晶浮柵存儲器及其制備方法 | 金林,劉明,霍宗亮,劉璟,張滿紅,王琴; | 201110022339.8 | 2011-01-20 |
| 集成電路制作過程中冗余金屬填充的方法及半導(dǎo)體器件 | 周雋雄,陳嵐,阮文彪,李志剛,王強,葉甜春; | 201110172941.X | 2011-06-24 |
科研產(chǎn)出