專利名稱 | 發(fā)明人 | 申請?zhí)?/th> | 申請日期 |
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層間電介質(zhì)層的平面化方法 | 殷華湘,徐秋霞,孟令款,楊濤,陳大鵬; | PCT/CN2011/071056 | 2011-02-17 |
半導(dǎo)體器件的制造方法 | 殷華湘,徐秋霞,許高博,孟令款,楊濤,陳大鵬; | PCT/CN2011/071060 | 2011-02-17 |
半導(dǎo)體器件的形成方法 | 朱慧瓏,李春龍,羅軍; | PCT/CN2011/071488 | 2011-03-03 |
半導(dǎo)體器件及其形成方法 | 朱慧瓏,吳昊,肖衛(wèi)平; | PCT/CN2011/071485 | 2011-03-03 |
半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法 | 朱慧瓏,尹海洲,駱志炯,梁擎擎; | PCT/CN2011/071534 | 2011-03-04 |
MOSFET及其制造方法 | 朱慧瓏,許淼,梁擎擎; | PCT/CN2011/071512 | 2011-03-04 |
MOSFET及其制造方法 | 朱慧瓏,許淼,梁擎擎; | PCT/CN2011/071537 | 2011-03-04 |
一種提高電子束光刻效率的方法 | 徐秋霞,許高博; | PCT/CN2011/070993 | 2011-02-15 |
高K柵介質(zhì)/金屬柵疊層?xùn)沤Y(jié)構(gòu)刻蝕后聚合物去除方法 | 徐秋霞,李永亮; | PCT/CN2011/070996 | 2011-02-15 |
懸空鰭片及環(huán)柵場效應(yīng)晶體管的制備方法 | 周華杰,宋毅,徐秋霞; | PCT/CN2011/071062 | 2011-02-17 |
接觸電極制造方法和半導(dǎo)體器件 | 朱慧瓏,尹海洲,駱志炯; | PCT/CN2011/071251 | 2011-02-24 |
金屬互連結(jié)構(gòu)及金屬層間通孔和互連金屬線的形成方法 | 趙超; | PCT/CN2011/071053 | 2011-02-17 |
半導(dǎo)體晶片的制造方法 | 鐘匯才,梁擎擎,趙超; | PCT/CN2011/071303 | 2011-02-25 |
半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法 | 朱慧瓏,梁擎擎,駱志炯,尹海洲; | PCT/CN2011/071514 | 2011-03-04 |
半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法 | 朱慧瓏,梁擎擎,尹海洲,駱志炯; | PCT/CN2011/071530 | 2011-03-04 |
科研產(chǎn)出