| 專利名稱 | 發(fā)明人 | 申請?zhí)?/th> | 申請日期 |
|---|---|---|---|
| 半導(dǎo)體器件及其制造方法 | 羅軍; 羅軍;趙超 | 201010553050.4 | 2010-11-20 |
| 半導(dǎo)體器件及其制造方法 | 朱慧瓏; 朱慧瓏;尹海洲;駱志炯;梁擎擎 | 201010299028.1 | 2010-09-29 |
| 溝槽隔離結(jié)構(gòu)及其形成方法 | 鐘匯才; 鐘匯才;趙超;梁擎擎 | 201010557395.7 | 2010-11-23 |
| 溝槽隔離結(jié)構(gòu)及其形成方法 | 鐘匯才; 鐘匯才;梁擎擎;尹海洲 | 201010552318.2 | 2010-11-19 |
| 應(yīng)力隔離溝槽半導(dǎo)體器件的形成方法 | 尹海洲; 尹海洲;駱志炯;朱慧瓏 | 201010527260.6 | 2010-10-29 |
| 一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法 | 尹海洲; 尹海洲;羅軍;朱慧瓏;駱志炯 | 201010572608.3 | 2010-12-03 |
| 一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法 | 尹海洲; 尹海洲;駱志炯;朱慧瓏 | 201010551454.X | 2010-11-18 |
| 一種半導(dǎo)體器件及其形成方法 | 駱志炯; 駱志炯;尹海洲;朱慧瓏 | 201010548655.4 | 2010-11-18 |
| 采用后柵工藝制備CMOS器件中接觸孔的方法 | 閆江; 閆江 | 201010542475.5 | 2010-11-11 |
| 晶體管及其制造方法 | 尹海洲; 尹海洲;朱慧瓏;駱志炯 | 201010532050.6 | 2010-10-19 |
| 晶體管及其制造方法 | 尹海洲; 尹海洲;駱志炯;朱慧瓏 | 201010532061.4 | 2010-10-19 |
| 一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法 | 尹海洲; 尹海洲;朱慧瓏;駱志炯 | 201010526916.2 | 2010-10-29 |
| 一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法 | 尹海洲; 尹海洲;駱志炯;朱慧瓏 | 201010296962.8 | 2010-09-29 |
| 線寬測量方法 | 尹海洲; 尹海洲;朱慧瓏;駱志炯 | 201010500353.X | 2010-09-29 |
| 晶體管及其制造方法 | 尹海洲; 尹海洲;駱志炯;朱慧瓏 | 201010284792.1 | 2010-09-15 |
科研產(chǎn)出