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專利

專利名稱 發(fā)明人 申請(qǐng)?zhí)?/th> 申請(qǐng)日期
半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法 范正萍; 朱慧瓏;吳彬能;肖衛(wèi)平;吳昊;梁擎擎 PCT/CN2011/073304 2011-04-26
半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制作方法 范正萍; 駱志炯;尹海洲;朱慧瓏 PCT/CN2011/073266 2011-04-25
半導(dǎo)體器件及其制作方法 范正萍; 駱志炯;朱慧瓏;尹海洲 PCT/CN2011/073296 2011-04-26
半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制作方法 范正萍; 朱慧瓏;梁擎擎;駱志炯;尹海洲 PCT/CN2011/071318 2011-02-25
一種源漏區(qū)、接觸孔及其形成方法 范正萍; 尹海洲;朱慧瓏;駱志炯 PCT/CN2011/071086 2011-02-18
層間電介質(zhì)層的平面化方法 范正萍; 殷華湘;徐秋霞;孟令款;楊濤;陳大鵬 PCT/CN2011/071056 2011-02-17
半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法 范正萍; 朱慧瓏;尹海洲;駱志炯;梁擎擎 PCT/CN2011/071534 2011-03-04
接觸電極制造方法和半導(dǎo)體器件 范正萍; 朱慧瓏;尹海洲;駱志炯 PCT/CN2011/071251 2011-02-24
一種用于CMOS器件的雙金屬柵雙高介質(zhì)的集成方法 范正萍; 徐秋霞;許高博 PCT/CN2011/071129 2011-02-21
一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法 范正萍; 尹海洲;朱慧瓏;駱志炯 201190000056.7 2011-10-19
一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法 范正萍; 尹海洲;朱慧瓏;駱志炯 201190000062.2 2011-10-20
晶體管及其制造方法 范正萍; 尹海洲;朱慧瓏;駱志炯 201190000074.5 2011-02-21
后柵工藝中假柵的制造方法 范正萍; 楊濤;趙超;閆江;李俊峰;盧一泓;陳大鵬 201110257658.7 2011-09-01
薄膜沉積方法 范正萍; 孟令款 201110197889.3 2011-07-14
3D集成電路結(jié)構(gòu)以及檢測(cè)芯片結(jié)構(gòu)是否對(duì)齊的方法 范正萍; 肖衛(wèi)平;朱慧瓏 201110187333.6 2011-07-05